邓晓 副教授博导

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联系方式:

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1110490dengxiao@tongji.edu.cn;

办公电话:021-65987815.

个人简历
教育经历:

(1)2007-9至2011-6, 同济大学, 应用物理学, 学士;

(2)2014-8至2016-7, 美国国家标准技术研究院(NIST), 光学计量, 客座研究员(Guest Researcher)/联合培养博士;

(3)2011-9至2016-12, 同济大学, 光学, 博士。

工作经历:

(1)2016-12至2018-12, 同济大学, 航空航天与力学学院, 博士后;

(2)2018-12至2021.12, 同济大学, 金莎娱乐app下载官网, 助理教授,硕导;

(3)2022.01至今,同济大学, 金莎娱乐app下载官网, 副教授,博导。

教学情况

本科生课程《普通物理》;

本科生课程《物理实验》。

研究方向

面向先进纳米制造、晶圆光刻、惯性导航、精密重力测量等领域对超精密纳米计量光栅的需求,应用原子光刻技术、软X射线干涉光刻技术、多层膜光栅技术等,开展光栅、线宽等标准物质研制及纳米级长度测量及应用工作。具体研究方向包括:(1)纳米长度标准物质研制;(2)皮米级精密微位移测量;(3)计算纳米测量技术;(4)MOEMS超精密加速度计。


作为项目负责人主持了国家重点研发计划项目1项(担任首席科学家)、基金委面上项目1项、基金委青年项目1项。

作为课题负责人承担了上海张江科创办重大项目课题1项、国防科工局技术基础项目课题1项。


近五年主要研究成果:(1)长度准确性在0.001nm量级的纳米长度标准物质;(2)角度准确性在0.001°量级的纳米角度标准物质;(3)光栅刻线密度高达4700线/mm的自溯源光栅干涉仪。所研制光栅获批国家一级标准物质2项、国家二级标准物质2项。共发表SCI论文18篇(含一作/通讯共13篇);申请中国发明专利6项(授权3项);申请美国发明专利2项;完成软件著作权登记4项;在国际学术会议作口头报告2次。


课题组链接:https://ipoe.tongji.edu.cn/jkyjy/kyfx/gxjlcs.htm

奖励荣誉
获奖:


2021年中国科协第六届青年托举人才


荣誉:


2021年同济大学“优秀班主任”

学术兼职
全国新材料与纳米计量技术委员会(MTC29)委员(2020.07~2024.06)
主要论著

一、获批国家标准物质4项,获批计量校准规范2项

序号

名称

编号

类型

1

一维铬纳米光栅标准物质

GBW13982

国家一级标准物质

2

一维硅纳米光栅标准物质

GBW13983

国家一级标准物质

3

二维铬纳米光栅标准物质

GBWE130838

国家二级标准物质

4

多结构硅纳米线宽

标准物质

GBWE130744

国家二级标准物质

5

激光衍射法反射光栅

校准规范

JJF 1647-2022

国家计量技术规范

6

微纳米线间隔标准样板

校准规范

JJF(沪)4001-2021

地方计量技术校准规范


二、申请美国发明专利2项,申请中国发明专利7项(授权3项)

序号

专利名称

类型

状态

1

Method for Manufacturing Grating Reference Materials Having a Self-traceability

发明

(美国专利)

申请
2

System for Precision Displacement Measurement Based on Self-Traceable Grating Interference

发明

(美国专利)

申请

3

一种新型二维原子光刻栅格结构的制备方法

发明

授权

4

一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置

发明

授权

5

一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法

发明

授权

6

一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统

发明

申请

7

基于扫描原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法

发明

申请

8

一种基于拼接原子光刻的大面积自溯源光栅制备方法

发明

申请

9

一种基于自溯源光栅的极紫外光刻胶质量

检测装置和方法

发明

申请


三、近五年来代表性论文:

(1) Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication, Nanomanufacturing and Metrology, 2022, 179–187, Xiao Deng ;Wen Tan; Zhaohui Tang; Zichao Lin; Xinbin Cheng; Tongbao Li


(2) A new type of nanoscale reference grating manufactur ed by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope, Ultramicroscopy, 2021, 226: 113293(1-5),Xiao Deng; Gaoliang Dai; Jie Liu; Xiukun Hu; Detlef Bergmann; Jun Zhao; Renzhong Tai; Xia oyu Cai; Yuan Li; Tongbao Li; Xinbin Cheng


(3) Realization of orthogonality in two-step laser focused Cr atomic deposition, Optik, 2019, 185: 423- 428, Deng, Xiao; Liu, Jie; Zhu, Li; Zhang, Baowu; He, Pengfei; Cheng, Xinbin; Li, Tongbao


(4) Natural square ruler at nanoscale, APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2018, 11(7): 075201(1-4), Xiao Deng; Jie Liu; Li Zhu; Pengfei He; Xinbin Cheng; Tongbao Li


(5) Optimization of Nano-Grating Pitch Evaluation Method Based on Line Edge Roughness Analysis, Measurem ent Science Review, 2017, 17(6): 264-268, Chen Jie; Liu Jie; Wang Xingrui; Zhang Longfei; Deng Xiao; Cheng Xinbin; Li Tongbao


本课题组长期欢迎本科生、研究生、博士后及青年教师的加入,如有兴趣请联系18135@tongji.edu.cn。


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