邓晓 副教授博导 邮箱:18135@tongji.edu.cn 联系方式: 邮箱:18135@tongji.edu.cn 1110490dengxiao@tongji.edu.cn;
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(1)2007-9至2011-6, 同济大学, 应用物理学, 学士;
(2)2014-8至2016-7, 美国国家标准技术研究院(NIST), 光学计量, 客座研究员(Guest Researcher)/联合培养博士;
(3)2011-9至2016-12, 同济大学, 光学, 博士。
(1)2016-12至2018-12, 同济大学, 航空航天与力学学院, 博士后;
(2)2018-12至2021.12, 同济大学, 金莎娱乐app下载官网, 助理教授,硕导;
(3)2022.01至今,同济大学, 金莎娱乐app下载官网, 副教授,博导。
本科生课程《普通物理》;
本科生课程《物理实验》。
面向先进纳米制造、晶圆光刻、惯性导航、精密重力测量等领域对超精密纳米计量光栅的需求,应用原子光刻技术、软X射线干涉光刻技术、多层膜光栅技术等,开展光栅、线宽等标准物质研制及纳米级长度测量及应用工作。具体研究方向包括:(1)纳米长度标准物质研制;(2)皮米级精密微位移测量;(3)计算纳米测量技术;(4)MOEMS超精密加速度计。
作为项目负责人主持了国家重点研发计划项目1项(担任首席科学家)、基金委面上项目1项、基金委青年项目1项。
作为课题负责人承担了上海张江科创办重大项目课题1项、国防科工局技术基础项目课题1项。
近五年主要研究成果:(1)长度准确性在0.001nm量级的纳米长度标准物质;(2)角度准确性在0.001°量级的纳米角度标准物质;(3)光栅刻线密度高达4700线/mm的自溯源光栅干涉仪。所研制光栅获批国家一级标准物质2项、国家二级标准物质2项。共发表SCI论文18篇(含一作/通讯共13篇);申请中国发明专利6项(授权3项);申请美国发明专利2项;完成软件著作权登记4项;在国际学术会议作口头报告2次。
课题组链接:https://ipoe.tongji.edu.cn/jkyjy/kyfx/gxjlcs.htm
2021年中国科协第六届青年托举人才
2021年同济大学“优秀班主任”
一、获批国家标准物质4项,获批计量校准规范2项
序号 |
名称 |
编号 |
类型 |
1 |
一维铬纳米光栅标准物质 |
GBW13982 |
国家一级标准物质 |
2 |
一维硅纳米光栅标准物质 |
GBW13983 |
国家一级标准物质 |
3 |
二维铬纳米光栅标准物质 |
GBW(E)130838 |
国家二级标准物质 |
4 |
多结构硅纳米线宽 标准物质 |
GBW(E)130744 |
国家二级标准物质 |
5 |
激光衍射法反射光栅 校准规范 |
JJF 1647-2022 |
国家计量技术规范 |
6 |
微纳米线间隔标准样板 校准规范 |
JJF(沪)4001-2021 |
地方计量技术校准规范 |
二、申请美国发明专利2项,申请中国发明专利7项(授权3项)
序号 |
专利名称 |
类型 |
状态 |
1 |
Method for Manufacturing Grating Reference Materials Having a Self-traceability |
发明 (美国专利) |
申请 |
2 |
System for Precision Displacement Measurement Based on Self-Traceable Grating Interference |
发明 (美国专利) |
申请 |
3 |
一种新型二维原子光刻栅格结构的制备方法 |
发明 |
授权 |
4 |
一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置 |
发明 |
授权 |
5 |
一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法 |
发明 |
授权 |
6 |
一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统 |
发明 |
申请 |
7 |
基于扫描原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法 |
发明 |
申请 |
8 |
一种基于拼接原子光刻的大面积自溯源光栅制备方法 |
发明 |
申请 |
9 |
一种基于自溯源光栅的极紫外光刻胶质量 检测装置和方法 |
发明 |
申请 |
三、近五年来代表性论文:
(1) Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication, Nanomanufacturing and Metrology, 2022, 179–187, Xiao Deng ;Wen Tan; Zhaohui Tang; Zichao Lin; Xinbin Cheng; Tongbao Li
(2) A new type of nanoscale reference grating manufactur ed by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope, Ultramicroscopy, 2021, 226: 113293(1-5),Xiao Deng; Gaoliang Dai; Jie Liu; Xiukun Hu; Detlef Bergmann; Jun Zhao; Renzhong Tai; Xia oyu Cai; Yuan Li; Tongbao Li; Xinbin Cheng
(3) Realization of orthogonality in two-step laser focused Cr atomic deposition, Optik, 2019, 185: 423- 428, Deng, Xiao; Liu, Jie; Zhu, Li; Zhang, Baowu; He, Pengfei; Cheng, Xinbin; Li, Tongbao
(4) Natural square ruler at nanoscale, APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2018, 11(7): 075201(1-4), Xiao Deng; Jie Liu; Li Zhu; Pengfei He; Xinbin Cheng; Tongbao Li
(5) Optimization of Nano-Grating Pitch Evaluation Method Based on Line Edge Roughness Analysis, Measurem ent Science Review, 2017, 17(6): 264-268, Chen Jie; Liu Jie; Wang Xingrui; Zhang Longfei; Deng Xiao; Cheng Xinbin; Li Tongbao
本课题组长期欢迎本科生、研究生、博士后及青年教师的加入,如有兴趣请联系18135@tongji.edu.cn。